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Fórmula Química K2S2O8 Persulfato de Potássio Reagente para Gravação de Placas de Circuito Iniciação de Polímeros

Fórmula Química K2S2O8 Persulfato de Potássio Reagente para Gravação de Placas de Circuito Iniciação de Polímeros

MOQ: 10Tons
preço: Please contact customer service
Embalagem padrão: Bagged
Período de entrega: About six weeks
Método de pagamento: T/T
Capacidade de abastecimento: 100,000 tons per year
Informações pormenorizadas
Place of Origin
China
Marca
SiChun HongJian
Model Number
Potassium persulfate
Alias:
Potassium persulfate
chemical formula:
K2S2O8
appearance:
white crystal
melting point:
1067 ℃
Boiling Point:
1689 ℃
Destacar:

Iniciação de Polímeros para Gravação

,

Fórmula Química Persulfato de Potássio

,

Persulfato de Potássio para Placas de Circuito

Descrição do produto

Visão geral do produto

O nossoPersulfato de potássio (K2S2O8)é um agente oxidante de qualidade superior, amplamente utilizado como iniciador de polimerização, agente de gravação e desinfetante.desempenha funções críticas na síntese química, electrónica e de tratamento de águas.


Especificações técnicas

Fórmula química: K2S2O8
Purificação: ≥ 99% (Classe de reagente ACS)
Aparência: Pó cristalino branco
Oxigénio ativo: ≥ 5,6%
Solubilidade: 50 g/l (20°C em água)
Temperatura de decomposição.: ≥ 100°C
Embalagem: 25 kg/tambor ou sob medida

Fórmula Química K2S2O8 Persulfato de Potássio Reagente para Gravação de Placas de Circuito Iniciação de Polímeros 0


Características e benefícios principais

Forte poder oxidante- Potencial redox padrão de 2,01 V
Excelente estabilidade térmica- Manuseio seguro à temperatura ambiente
Alta pureza- Baixo teor de metais pesados (< 5 ppm)
Solúvel em água- Fácil de preparar soluções de trabalho
Aplicações em várias indústrias- Desempenho versátil


Aplicações primárias

1Indústria de polímeros

  • Iniciador primário para polimerização de acrílico, PVC e estireno

  • Essencial para processos de polimerização de emulsões

2Fabricação de eletrónica

  • Limpeza de PCB e microeletrônicos

  • Tratamento de superfície de wafers de silício

3Tratamento de águas

  • Reagente de processo avançado de oxidação (AOP)

  • Degrada poluentes orgânicos nas águas residuais

4. têxteis e cosméticos

  • Activador de alvejante para cabelo

  • Agentes de desinfecção e branqueamento de têxteis


Ácido oxálico (C2H2O4) - Produto complementar

Fórmula química: C2H2O4
Principais aplicações:

  • Tratamento da superfície do metal: Eliminação e polimento da ferrugem

  • Intermediário farmacêutico: Produção de oxalato de cálcio

  • Branqueamento de madeira: Restauração de móveis antigos

  • Química Analítica: Precipitação de elementos de terras raras


Segurança e manipulação

- Não.Armazenamento: local fresco e seco, longe de materiais orgânicos
- Não.Proteção: Equipamento de protecção individual necessário (luvas, óculos, respirador)
- Não.Incompatibilidades: Redutores, materiais combustíveis
- Não.Primeiros Socorros: Lavar os olhos/a pele com água, caso haja contacto


Garantia da qualidade

• Consistência de lote para lote
• Produção certificada ISO 9001
• Disponível uma SDS completa
• Relatórios de ensaios de laboratório de terceiros


Por que escolher-nos?


✅ Produtos de alta pureza, em conformidade com os padrões internacionais
✅ Mais de 30 anos de experiência na produção química
✅ Controlo de Qualidade rigoroso com rastreabilidade de lotes
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